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Optical and Quantum Electronics
Erschienen in: Optical and Quantum Electronics 10/2016

01.10.2016

Annealing process and mechanism of glass based VO2 film from V oxidation in pure oxygen atmosphere

verfasst von: Xingxing Liu, Ruonan Ji, Yi Zhang, Huafen Li, Shao-Wei Wang

Erschienen in: Optical and Quantum Electronics | Ausgabe 10/2016

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Abstract

Vanadium oxidation method is a promising approach for industrial production of VO2 thin film on glass. For this method, post-annealing process is vital to the formation and quality of VO2 thin film. Annealing temperature, time, and oxygen pressure for preparing of large scale VO2 films on glass were studied systematically in this work. The influence of V film thickness is studied as well. The results reveal that the best annealing parameters are significantly influenced by the thickness of V film. The mechanism of annealing oxidation process is discussed further. The oxidation process is dominated by the reaction-control rather than the diffusion-control. A 200 mm × 200 mm large area VO2 film on glass substrate was successfully prepared through metal vanadium oxidation method for demonstration. It is a promising way for large scale fabrication of high performance smart energy-saving window.
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Metadaten
Titel
Annealing process and mechanism of glass based VO2 film from V oxidation in pure oxygen atmosphere
verfasst von
Xingxing Liu
Ruonan Ji
Yi Zhang
Huafen Li
Shao-Wei Wang
Publikationsdatum
01.10.2016
Verlag
Springer US
Erschienen in
Optical and Quantum Electronics / Ausgabe 10/2016
Print ISSN: 0306-8919
Elektronische ISSN: 1572-817X
DOI
https://doi.org/10.1007/s11082-016-0720-x

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