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Journal of Electronic Materials
Erschienen in: Journal of Electronic Materials 1/2015

01.01.2015

Electrical Conduction Mechanisms in Metal–Insulator–Metal (MIM) Structure with TiO x N y Thin Films Deposited with Different O/N Ratios

verfasst von: Juliano Libardi, Korneli G. Grigorov, Rodrigo S. Moraes, Marciel Guerino, Argemiro S. Da Silva Sobrinho, Marcos Massi

Erschienen in: Journal of Electronic Materials | Ausgabe 1/2015

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Metadaten
Titel
Electrical Conduction Mechanisms in Metal–Insulator–Metal (MIM) Structure with TiO x N y Thin Films Deposited with Different O/N Ratios
verfasst von
Juliano Libardi
Korneli G. Grigorov
Rodrigo S. Moraes
Marciel Guerino
Argemiro S. Da Silva Sobrinho
Marcos Massi
Publikationsdatum
01.01.2015
Verlag
Springer US
Erschienen in
Journal of Electronic Materials / Ausgabe 1/2015
Print ISSN: 0361-5235
Elektronische ISSN: 1543-186X
DOI
https://doi.org/10.1007/s11664-014-3470-1

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