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Erschienen in: Measurement Techniques 9/2015

01.12.2015 | NANOMETROLOGY

Electron Probe Measurements of Oxide Film Thickness on Silicon Surfaces

verfasst von: V. P. Gavrilenko, A. Yu. Kuzin, V. B. Mityukhlyaev, M. A. Stepovich, P. A. Todua, M. N. Filippov

Erschienen in: Measurement Techniques | Ausgabe 9/2015

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Abstract

An electron probe method for measuring the thickness of oxide films on silicon surfaces is proposed. The measurement range, lateral resolution, and measurement errors are estimated.

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Literatur
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Metadaten
Titel
Electron Probe Measurements of Oxide Film Thickness on Silicon Surfaces
verfasst von
V. P. Gavrilenko
A. Yu. Kuzin
V. B. Mityukhlyaev
M. A. Stepovich
P. A. Todua
M. N. Filippov
Publikationsdatum
01.12.2015
Verlag
Springer US
Erschienen in
Measurement Techniques / Ausgabe 9/2015
Print ISSN: 0543-1972
Elektronische ISSN: 1573-8906
DOI
https://doi.org/10.1007/s11018-015-0824-x

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