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01.12.2015 | NANOMETROLOGY | Ausgabe 9/2015

Measurement Techniques 9/2015

Electron Probe Measurements of Oxide Film Thickness on Silicon Surfaces

Zeitschrift:
Measurement Techniques > Ausgabe 9/2015
Autoren:
V. P. Gavrilenko, A. Yu. Kuzin, V. B. Mityukhlyaev, M. A. Stepovich, P. A. Todua, M. N. Filippov
Wichtige Hinweise
Translated from Izmeritel’naya Tekhnika, No. 9, pp. 13–16, September, 2015.
An electron probe method for measuring the thickness of oxide films on silicon surfaces is proposed. The measurement range, lateral resolution, and measurement errors are estimated.

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