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Journal of Materials Science
Erschienen in: Journal of Materials Science 5/2011

01.03.2011

New insights in photo-patterned sol–gel-derived TiO2 films

verfasst von: S. Briche, Z. Tebby, D. Riassetto, M. Messaoud, E. Gamet, E. Pernot, H. Roussel, O. Dellea, Y. Jourlin, M. Langlet

Erschienen in: Journal of Materials Science | Ausgabe 5/2011

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Abstract

Specific sol–gel formulations and protocols have been adapted to the fine patterning of TiO2 films using a very simplified UVA three-step lithography method. Mechanisms occurring during the photo-patterning procedure and a post-patterning thermal treatment have been studied by Fourier transform infrared spectroscopy, atomic force microscopy, X-ray diffraction, and ellipsometry. Discussions are proposed to support the influence of the photo-patterning procedure and post-patterning treatment on the shape and the dimension of so-formed microstructures. Original additional functionalities arising from such structures are also presented.
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Metadaten
Titel
New insights in photo-patterned sol–gel-derived TiO2 films
verfasst von
S. Briche
Z. Tebby
D. Riassetto
M. Messaoud
E. Gamet
E. Pernot
H. Roussel
O. Dellea
Y. Jourlin
M. Langlet
Publikationsdatum
01.03.2011
Verlag
Springer US
Erschienen in
Journal of Materials Science / Ausgabe 5/2011
Print ISSN: 0022-2461
Elektronische ISSN: 1573-4803
DOI
https://doi.org/10.1007/s10853-010-4949-7

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