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Erschienen in:
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1988 | OriginalPaper | Buchkapitel

On the Decay of X-Ray Induced Luminescence of SiO2

verfasst von : I. Godmanis, W. Hohenau

Erschienen in: The Physics and Technology of Amorphous SiO2

Verlag: Springer US

Enthalten in: Professional Book Archive

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A radiation induced luminescence in crystalline and glassy SiO2 has been widely studied1,2 but, only few investigations of its afterglow behaviour have been reported3,4,5. This paper is dedicated to the study of the influence of usual and different added impurities on the x-ray induced luminescence and especially on it’s afterglow in crystalline and glassy SiO2.

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Metadaten
Titel
On the Decay of X-Ray Induced Luminescence of SiO2
verfasst von
I. Godmanis
W. Hohenau
Copyright-Jahr
1988
Verlag
Springer US
Buch
The Physics and Technology of Amorphous SiO2

Print ISBN: 978-1-4612-8301-0

Electronic ISBN: 978-1-4613-1031-0

Copyright-Jahr: 1988

DOI
https://doi.org/10.1007/978-1-4613-1031-0_21

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