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Journal of Materials Science
Erschienen in: Journal of Materials Science 10/2013

01.05.2013

Oxygen incorporation in Ti2AlC thin films studied by electron energy loss spectroscopy and ab initio calculations

verfasst von: A. Mockute, M. Dahlqvist, L. Hultman, P. O. Å. Persson, J. Rosen

Erschienen in: Journal of Materials Science | Ausgabe 10/2013

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Abstract

Substitution of C with O in hexagonal inherently nanolaminated Ti2AlC has been studied experimentally and theoretically. Ti2Al(C1−x O x ) thin films with x ≤ 0.52 are synthesized by both cathodic arc deposition with the uptake of residual gas O, and solid-state reaction between understoichiometric TiC y and Al2O3(0001) substrates. The compositional analysis is made by analytical transmission electron microscopy, including electron energy loss spectroscopy. Furthermore, predictive ab initio calculations are performed to evaluate the influence of substitutional O on the shear stress at different strains for slip on the (0001) basal plane in the [−1010] and [1−210] directions.
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Metadaten
Titel
Oxygen incorporation in Ti2AlC thin films studied by electron energy loss spectroscopy and ab initio calculations
verfasst von
A. Mockute
M. Dahlqvist
L. Hultman
P. O. Å. Persson
J. Rosen
Publikationsdatum
01.05.2013
Verlag
Springer US
Erschienen in
Journal of Materials Science / Ausgabe 10/2013
Print ISSN: 0022-2461
Elektronische ISSN: 1573-4803
DOI
https://doi.org/10.1007/s10853-013-7165-4

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