Skip to main content
Fachgebiete
Automobil + Motoren Bauwesen + Immobilien Business IT + Informatik Elektrotechnik + Elektronik Energie + Nachhaltigkeit Finance + Banking Management + Führung Marketing + Vertrieb Maschinenbau + Werkstoffe Versicherung + Risiko
DE
EN
Bücher
Zeitschriften
Themenseiten
Organisationspsychologie Projektmanagement Marketing Smart Manufacturing
Weitere Formate
Podcasts Webinare Technik Webinare Wirtschaft Kongresse Veranstaltungskalender Awards
Jetzt Einzelzugang starten
Zugang für Unternehmen
Referenzkunden
SLX-Digitalkonferenz: Zukunftswerkstatt 2024

Mehr Umsatz mit Top-Kontakten

Am 7. Mai erfahren Sie, wie Vertriebsteams Leadgenerierung, Leadnurturing und Leadstrategien effizient steuern können.
Erweiterte Suche
Anmelden
nach oben
Journal of Electronic Materials
Erschienen in: Journal of Electronic Materials 6/2006

01.06.2006

Effects of a-Si:H resist vacuum-lithography processing on HgCdTe

verfasst von: R. N. Jacobs, E. W. Robinson, M. Jaime-Vasquez, A. J. Stoltz, J. Markunas, L. A. Almeida, P. R. Boyd, J. H. Dinan, L. Salamanca-Riba

Erschienen in: Journal of Electronic Materials | Ausgabe 6/2006

Einloggen

Aktivieren Sie unsere intelligente Suche, um passende Fachinhalte oder Patente zu finden.

search-config
loading …
Vorheriger Artikel p to n conversion in SWIR mercury cadmium telluride with ion milling
Nächster Artikel Investigation of HgTe-HgCdTe superlattices by high-resolution X-ray diffraction

Sie haben noch keine Lizenz? Dann Informieren Sie sich jetzt über unsere Produkte:

Springer Professional "Wirtschaft+Technik"

Online-Abonnement

Mit Springer Professional "Wirtschaft+Technik" erhalten Sie Zugriff auf:

  • über 102.000 Bücher
  • über 537 Zeitschriften

aus folgenden Fachgebieten:

  • Automobil + Motoren
  • Bauwesen + Immobilien
  • Business IT + Informatik
  • Elektrotechnik + Elektronik
  • Energie + Nachhaltigkeit
  • Finance + Banking
  • Management + Führung
  • Marketing + Vertrieb
  • Maschinenbau + Werkstoffe
  • Versicherung + Risiko

Jetzt Wissensvorsprung sichern!

Jetzt informieren

Springer Professional "Technik"

Online-Abonnement

Mit Springer Professional "Technik" erhalten Sie Zugriff auf:

  • über 67.000 Bücher
  • über 390 Zeitschriften

aus folgenden Fachgebieten:

  • Automobil + Motoren
  • Bauwesen + Immobilien
  • Business IT + Informatik
  • Elektrotechnik + Elektronik
  • Energie + Nachhaltigkeit
  • Maschinenbau + Werkstoffe




 

Jetzt Wissensvorsprung sichern!

Jetzt informieren
Metadaten
Titel
Effects of a-Si:H resist vacuum-lithography processing on HgCdTe
verfasst von
R. N. Jacobs
E. W. Robinson
M. Jaime-Vasquez
A. J. Stoltz
J. Markunas
L. A. Almeida
P. R. Boyd
J. H. Dinan
L. Salamanca-Riba
Publikationsdatum
01.06.2006
Verlag
Springer-Verlag
Erschienen in
Journal of Electronic Materials / Ausgabe 6/2006
Print ISSN: 0361-5235
Elektronische ISSN: 1543-186X
DOI
https://doi.org/10.1007/s11664-006-0287-6

Weitere Artikel der Ausgabe 6/2006

Journal of Electronic Materials 6/2006 Zur Ausgabe

OriginalPaper

Minority carrier lifetimes in HgCdTe alloys

OriginalPaper

TV/4 dual-band HgCdTe infrared focal plane arrays with a 25-εm pitch and spatial coherence

OriginalPaper

CdZnTe graded buffer layers for HgCdTe/Si integration

OriginalPaper

Influence of Substrate Orientation on the Growth of HgCdTe by Molecular Beam Epitaxy

OriginalPaper

Effects of hydrogen on majority carrier transport and minority carrier lifetimes in long-wavelength infrared HgCdTe on Si

OriginalPaper

Thin film transmission matrix approach to fourier transform infrared analysis of HgCdTe multilayer heterostructures

Neuer Inhalt

    Bildnachweise