1988 | OriginalPaper | Buchkapitel
Electron and Hole Traps Related to A π-Bonded Oxygen Vacancy Center in SiO2
verfasst von : Ireneusz Strzalkowski
Erschienen in: The Physics and Technology of Amorphous SiO2
Verlag: Springer US
Enthalten in: Professional Book Archive
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An oxygen vacancy is one of the most fundamental defects in SiO2. It influences many physical properties of silicon dioxide, e.g. charge trapping. Therefore a detailed knowledge of microscopy and chemical bonding of this defect is essential in understanding the physics of many problems in SiO2.