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Journal of Electronic Materials
Erschienen in: Journal of Electronic Materials 9/2000

01.09.2000 | Regular Issue Paper

Etch characteristics of GaN and BN materials in chlorine-based plasmas

verfasst von: N. Medelci, A. Tempez, D. Starikov, N. Badi, I. Berishev, A. Bensaoula

Erschienen in: Journal of Electronic Materials | Ausgabe 9/2000

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Metadaten
Titel
Etch characteristics of GaN and BN materials in chlorine-based plasmas
verfasst von
N. Medelci
A. Tempez
D. Starikov
N. Badi
I. Berishev
A. Bensaoula
Publikationsdatum
01.09.2000
Verlag
Springer-Verlag
Erschienen in
Journal of Electronic Materials / Ausgabe 9/2000
Print ISSN: 0361-5235
Elektronische ISSN: 1543-186X
DOI
https://doi.org/10.1007/s11664-004-0268-6

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