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2014 | OriginalPaper | Buchkapitel

Increasing Scatterometric Sensitivity by Simulation Based Optimization of Structure Design

verfasst von : Valeriano Ferreras Paz, Karsten Frenner, Wolfgang Osten

Erschienen in: Fringe 2013

Verlag: Springer Berlin Heidelberg

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The optimization of the lithographic process in semiconductor industry is continuously conducting towards smaller devices and structures but at the same time highly increasing metrology exigencies.

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Metadaten
Titel
Increasing Scatterometric Sensitivity by Simulation Based Optimization of Structure Design
verfasst von
Valeriano Ferreras Paz
Karsten Frenner
Wolfgang Osten
Copyright-Jahr
2014
Verlag
Springer Berlin Heidelberg
Buch
Fringe 2013

Print ISBN: 978-3-642-36358-0

Electronic ISBN: 978-3-642-36359-7

Copyright-Jahr: 2014

DOI
https://doi.org/10.1007/978-3-642-36359-7_62