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Erschienen in: Semiconductors 11/2018

01.11.2018 | XXII INTERNATIONAL SYMPOSIUM “NANOPHYSICS AND NANOELECTRONICS”, NIZHNY NOVGOROD, MARCH 12–15, 2018

Investigation of the Anisotropy of the Structural Properties of GaN(0001) Layers Grown by MOVPE on a-Plane (11\(\bar {2}\)0) Sapphire

verfasst von: P. A. Yunin, Yu. N. Drozdov, O. I. Khrykin, V. A. Grigoryev

Erschienen in: Semiconductors | Ausgabe 11/2018

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Abstract

The structural properties of GaN(0001) heteroepitaxial layers grown by metalorganic vapor phase epitaxy (MOVPE) on a-plane (11\(\bar {2}\)0) sapphire substrates are investigated by X-ray diffractometry. Anisotropy of the rocking-curve width for the symmetric (0004) and asymmetric {11\(\bar {2}\)4} and {10\(\bar {1}\)5} reflections of gallium nitride upon rotation of the sample is observed. A comparison of the anisotropy of the rocking-curve width for GaN(0001)/Al2O3(11\(\bar {2}\)0) layers with two different variants of in-plane orientation relationships suggests that the anisotropy of the structural properties is independent of the thermoelastic stress arising upon cooling the heterostructure.

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Metadaten
Titel
Investigation of the Anisotropy of the Structural Properties of GaN(0001) Layers Grown by MOVPE on a-Plane (110) Sapphire
verfasst von
P. A. Yunin
Yu. N. Drozdov
O. I. Khrykin
V. A. Grigoryev
Publikationsdatum
01.11.2018
Verlag
Pleiades Publishing
Erschienen in
Semiconductors / Ausgabe 11/2018
Print ISSN: 1063-7826
Elektronische ISSN: 1090-6479
DOI
https://doi.org/10.1134/S106378261811026X

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