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Journal of Electroceramics
Erschienen in: Journal of Electroceramics 4/2006

01.07.2006 | Section 2: Thin Film

Deposition and gas sensing properties of tin oxide thin films by inductively coupled plasma chemical vapor deposition

verfasst von: Y. C. Lee, O. K. Tan, H. Huang, M. S. Tse

Erschienen in: Journal of Electroceramics | Ausgabe 4/2006

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Metadaten
Titel
Deposition and gas sensing properties of tin oxide thin films by inductively coupled plasma chemical vapor deposition
verfasst von
Y. C. Lee
O. K. Tan
H. Huang
M. S. Tse
Publikationsdatum
01.07.2006
Verlag
Kluwer Academic Publishers
Erschienen in
Journal of Electroceramics / Ausgabe 4/2006
Print ISSN: 1385-3449
Elektronische ISSN: 1573-8663
DOI
https://doi.org/10.1007/s10832-006-9907-z

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