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Erschienen in: Journal of Materials Science: Materials in Electronics 4/2009

01.04.2009

Microstructure, optical and dielectric properties of compositional graded (Ba,Sr)TiO3 thin films derived by RF magnetron sputtering

verfasst von: Jun Wang, Junhuai Xiang, Shuwang Duo, Wenkui Li, Mingsheng Li, Lingyun Bai

Erschienen in: Journal of Materials Science: Materials in Electronics | Ausgabe 4/2009

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Abstract

Thin films of compositional graded Ba1−x Sr x TiO3 (BST) (x decreasing from 0.3 to 0) were prepared on fused quartz and Pt/Ti/SiO2/Si substrates by RF magnetron sputtering. The microstructure of the graded BST thin films was characterized by X-ray diffraction (XRD). It indicates that the films were crystallized with peroveskite structure and (100) + (111) preferred orientation. The refractive index and the band gap were determined at room temperature in the wavelength 200–1100 nm from spectrophotometric measurements of the transmittance. The average value of the refractive index is found to be 2.17 for the graded BST films in the wavelength 400–1000 nm. The optical band gap of the graded BST film was 3.77 eV. The dielectric measurement showed that the dielectric constant and loss factor of the graded BST film was 318.04 and 0.028 at 100 KHz and room temperature.

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Literatur
12.
Zurück zum Zitat B.S. Zhang, T. Guo, T.J. Zhang, et al., Trans. Nonferr. Met. Soc. China 16, s126 (2006)CrossRef B.S. Zhang, T. Guo, T.J. Zhang, et al., Trans. Nonferr. Met. Soc. China 16, s126 (2006)CrossRef
Metadaten
Titel
Microstructure, optical and dielectric properties of compositional graded (Ba,Sr)TiO3 thin films derived by RF magnetron sputtering
verfasst von
Jun Wang
Junhuai Xiang
Shuwang Duo
Wenkui Li
Mingsheng Li
Lingyun Bai
Publikationsdatum
01.04.2009
Verlag
Springer US
Erschienen in
Journal of Materials Science: Materials in Electronics / Ausgabe 4/2009
Print ISSN: 0957-4522
Elektronische ISSN: 1573-482X
DOI
https://doi.org/10.1007/s10854-008-9727-9

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