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Erschienen in: Journal of Electroceramics 2-3/2000

01.06.2000

Oxide Thin Films for Tunable Microwave Devices

verfasst von: X.X. Xi, Hong-Cheng Li, Weidong Si, A.A. Sirenko, I.A. Akimov, J.R. Fox, A.M. Clark, Jianhua Hao

Erschienen in: Journal of Electroceramics | Ausgabe 2-3/2000

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Metadaten
Titel
Oxide Thin Films for Tunable Microwave Devices
verfasst von
X.X. Xi
Hong-Cheng Li
Weidong Si
A.A. Sirenko
I.A. Akimov
J.R. Fox
A.M. Clark
Jianhua Hao
Publikationsdatum
01.06.2000
Verlag
Kluwer Academic Publishers
Erschienen in
Journal of Electroceramics / Ausgabe 2-3/2000
Print ISSN: 1385-3449
Elektronische ISSN: 1573-8663
DOI
https://doi.org/10.1023/A:1009903802688

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