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2021 | OriginalPaper | Buchkapitel

Numerical Study of the Effect of Applied Voltage on Simultaneous Modes of Electron Heating in RF Capacitive Discharges

verfasst von : Abdelhak Missaoui, Morad Elkaouini, Hassan Chatei

Erschienen in: Proceedings of the 2nd International Conference on Electronic Engineering and Renewable Energy Systems

Verlag: Springer Singapore

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Abstract

A mathematical model based on the fluid approach is developed to study the capacitively coupled radiofrequency discharges at low pressure. This model allows us to obtain the electron heating profiles under the effects of applied voltage and pressure after 3000 radiofrequency cycles. These informations are very useful to understand the plasma processes used for etching or for the deposition of thin films to manufacture capacitors or micro coils. The results showed an increase whether for the pressure heating or for the ohmic heating when the applied voltage increases from 150 to 220 V. Finally, the results also showed that pressure heating and ohmic heating exist simultaneously and increase rapidly with the increase of the pressure which has similar effect to the applied voltage on the electron heating.

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Literatur
2.
Zurück zum Zitat Lieberman MA, Lichtenberg AJ (1994) Principles of plasma discharges and materials processing. Wiley, New York Lieberman MA, Lichtenberg AJ (1994) Principles of plasma discharges and materials processing. Wiley, New York
7.
Metadaten
Titel
Numerical Study of the Effect of Applied Voltage on Simultaneous Modes of Electron Heating in RF Capacitive Discharges
verfasst von
Abdelhak Missaoui
Morad Elkaouini
Hassan Chatei
Copyright-Jahr
2021
Verlag
Springer Singapore
DOI
https://doi.org/10.1007/978-981-15-6259-4_29