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Erschienen in:
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1988 | OriginalPaper | Buchkapitel

Photo-Induced Oxidation Processes in Silicon

verfasst von : E. Fogarassy

Erschienen in: The Physics and Technology of Amorphous SiO2

Verlag: Springer US

Enthalten in: Professional Book Archive

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We review in this paper the different ways which have been explored to photo-induce oxidation of silicon using CW and pulsed lasers of different wavelengths working both in solid and liquid phase regimes. The specific influence of visible and ultraviolet intense light sources on the oxidation processes will be detailed with special attention to the non thermal effects suggested to be present when using UV photons of high energy (> 3.5 eV).

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Metadaten
Titel
Photo-Induced Oxidation Processes in Silicon
verfasst von
E. Fogarassy
Copyright-Jahr
1988
Verlag
Springer US
Buch
The Physics and Technology of Amorphous SiO2

Print ISBN: 978-1-4612-8301-0

Electronic ISBN: 978-1-4613-1031-0

Copyright-Jahr: 1988

DOI
https://doi.org/10.1007/978-1-4613-1031-0_44

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