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Technical Physics
Erschienen in: Technical Physics 11/2023

01.11.2023

Plasmachemical Etching in Postgrowth Technology of Photovoltaic Converters

verfasst von: A. V. Malevskaya, Yu. M. Zadiranov, N. D. Il’inskaya, D. A. Malevskiy, P. V. Pokrovskiy

Erschienen in: Technical Physics | Ausgabe 11/2023

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Abstract

Investigation of the heterostructure plasmachemical etching technology for fabricating multi-junction photovoltaic converters has been carried out. The dividing mesa-structure forming stage at different etching regimes and subsequent disturbed layer removing by liquid chemical treatment has been reviewed. The influence of mesa etching methods on cells photovoltaic characteristics has been investigated. Developed was the technology of photovoltaic converters fabrication with low current leakage values less than 10–9 A at voltage less then 1V with high resistance to degradation.
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Literatur
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Metadaten
Titel
Plasmachemical Etching in Postgrowth Technology of Photovoltaic Converters
verfasst von
A. V. Malevskaya
Yu. M. Zadiranov
N. D. Il’inskaya
D. A. Malevskiy
P. V. Pokrovskiy
Publikationsdatum
01.11.2023
Verlag
Pleiades Publishing
Erschienen in
Technical Physics / Ausgabe 11/2023
Print ISSN: 1063-7842
Elektronische ISSN: 1090-6525
DOI
https://doi.org/10.1134/S1063784223900681

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