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Erschienen in: Journal of Materials Science: Materials in Electronics 14/2017

29.03.2017

Resistive switching properties of HfxZr1−xO2 thin films for flexible memory applications

verfasst von: Zhipeng Wu, Jun Zhu, Xingpeng Liu

Erschienen in: Journal of Materials Science: Materials in Electronics | Ausgabe 14/2017

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Abstract

The flexible unipolar resistive switching characteristics of Au/Ni/HZO/Au devices on Polyethylene terephthalate substrates have been investigated for the RRAM applications. The devices demonstrated a bistable and reproducible unipolar RS behavior with a high OFF/ON ratio about 103, and the memory widow could be maintained in repetitive programming/erase at least 1000 cycles. The retention property has no degradation at 6.3 × 104 seconds. The current–voltage characteristics of the HZO samples show that the Ohmic contact and space charge limited current are suggested to response for the low resistance state and high resistance state, respectively. Combined with the conductance mechanism, the resistive switching behaviors can be explained by the conductive filaments model. The RS mechanism is attributed to restore and rupture caused by the joule heating and the redox reaction induced by the external electron injection. The memory devices also show good mechanical flexibility. It is believed that the HZO-based memory device has great potential to be used in high performance, flexible memory applications.

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Literatur
Metadaten
Titel
Resistive switching properties of HfxZr1−xO2 thin films for flexible memory applications
verfasst von
Zhipeng Wu
Jun Zhu
Xingpeng Liu
Publikationsdatum
29.03.2017
Verlag
Springer US
Erschienen in
Journal of Materials Science: Materials in Electronics / Ausgabe 14/2017
Print ISSN: 0957-4522
Elektronische ISSN: 1573-482X
DOI
https://doi.org/10.1007/s10854-017-6837-2

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