Anzeige
Erschienen in:
1984 | OriginalPaper | Buchkapitel
Sputtering and Secondary Ion Yields of Ti-Al Alloys Subjected to Oxygen Ion Bombardment
verfasst von : K. Inoue, Y. Taga, K. Satta
Erschienen in: Secondary Ion Mass Spectrometry SIMS IV
Verlag: Springer Berlin Heidelberg
Enthalten in: Professional Book Archive
Aktivieren Sie unsere intelligente Suche, um passende Fachinhalte oder Patente zu finden.
Wählen Sie Textabschnitte aus um mit Künstlicher Intelligenz passenden Patente zu finden. powered by
Markieren Sie Textabschnitte, um KI-gestützt weitere passende Inhalte zu finden. powered by
A principal approach to the fundamental understanding of SIMS process requires the accumulation of reliable data. Recently, we determined the yields of sputtering and secondary ion emission of pure metals under oxygen ion bombardment, and found some factors governing fundamental phenomena of SIMS[1].