01.06.2000 | Electron and Ion Beams, Accelerators
Sputtering characteristics of fullerene C60 films under bombardment with 0.1–1-keV argon ions and atoms
Erschienen in: Technical Physics | Ausgabe 6/2000
EinloggenAktivieren Sie unsere intelligente Suche, um passende Fachinhalte oder Patente zu finden.
Wählen Sie Textabschnitte aus um mit Künstlicher Intelligenz passenden Patente zu finden. powered by
Markieren Sie Textabschnitte, um KI-gestützt weitere passende Inhalte zu finden. powered by