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2018 | OriginalPaper | Buchkapitel

Thermal Stability of Er2O3–Al2O3 Thin Films Grown on Si Substrates

verfasst von : Xiaojie Pan, Zhifang Zhang, Yanyan Zhu, Zebo Fang, Haijing Cao

Erschienen in: Advanced Functional Materials

Verlag: Springer Singapore

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Abstract

The thermal stability of Er2O3 and Al2O3 doped Er2O3 thin films deposited on Si substrates has been investigated by x-ray diffraction and x-ray photoelectron spectroscopy. The structures for the as-grown Er2O3 and Al2O3 doped Er2O3 films on Si substrates are found to convert from amorphous to polycrystalline at the annealing temperatures above 450 °C in O2 ambience. The crystallinity and the surfaces roughness of Er2O3 thin films on p-type Si (001) substrates are decreased if Al2O3 is doped in them. However, the result is complicated if these Er2O3 and Al2O3 doped Er2O3 thin films deposited on n-type Si(001) substrates.

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Metadaten
Titel
Thermal Stability of Er2O3–Al2O3 Thin Films Grown on Si Substrates
verfasst von
Xiaojie Pan
Zhifang Zhang
Yanyan Zhu
Zebo Fang
Haijing Cao
Copyright-Jahr
2018
Verlag
Springer Singapore
Buch
Advanced Functional Materials

Print ISBN: 978-981-13-0109-4

Electronic ISBN: 978-981-13-0110-0

Copyright-Jahr: 2018

DOI
https://doi.org/10.1007/978-981-13-0110-0_41

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