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Science China Technological Sciences
Erschienen in: Science China Technological Sciences 6/2008

01.06.2008

Three-dimensional discharge simulation of inductively coupled plasma (ICP) etching reactor

verfasst von: YiRan An, YiJia Lu, DongSan Li, YaoSong Chen

Erschienen in: Science China Technological Sciences | Ausgabe 6/2008

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Metadaten
Titel
Three-dimensional discharge simulation of inductively coupled plasma (ICP) etching reactor
verfasst von
YiRan An
YiJia Lu
DongSan Li
YaoSong Chen
Publikationsdatum
01.06.2008
Verlag
SP Science in China Press
Erschienen in
Science China Technological Sciences / Ausgabe 6/2008
Print ISSN: 1674-7321
Elektronische ISSN: 1869-1900
DOI
https://doi.org/10.1007/s11431-008-0065-1

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