Verwendete oberflächenanalytische Methoden

Parallel zu den steigenden Anforderungen an die Oberflächenqualität von Halbleitermaterialien wurde auch die Leistungsfähigkeit oberflächenanalytischer Verfahren stetig gesteigert. Die Anwendung solcher Verfahren dient heutzutage insbesondere der Optimierung der Oberfläche und der Sicherstellung einer definierten und reproduzierbaren Oberflächenzusammensetzung. Eine „ideale“ Oberflächenanalytik für alle interessanten oberflächennahen Bereiche eines Halbleiters müßte die genaue quantitative Bestimmung der Element- und Molekülverteilung mit hoher Ortsauflösung, hoher Tiefenauflösung und hoher Nachweisempfindlichkeit ermöglichen. Da diese „ideale“ Oberflächenanalytik nicht verfügbar ist, bietet sich die Kombination verschiedener Verfahren an, die in ihrer Summe die geforderten Eigenschaften vereinen.