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Journal of Materials Science: Materials in Electronics
Erschienen in:

09.06.2016

Chemically deposited nickel oxide as counter electrode for dye sensitized solar cell

verfasst von: A. T. Yadav, P. P. Magar, V. S. Kadam, C. V. Jagtap, C. S. Pawar

Erschienen in: Journal of Materials Science: Materials in Electronics | Ausgabe 12/2016

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Abstract

Nickel oxide (NiO) thin films have been synthesized by simple and inexpensive chemical bath deposition at low temperature. The synthesized thin films were annealed at 623 K and used for further characterization. Structural and morphological properties of the NiO thin film were characterized using X-ray diffraction and scanning electron microscope (SEM), respectively. The structural study shows the simple cubic formation of NiO thin films with average crystallite size of 9 nm. Honeycomb like surface morphology with porous structure was observed from the SEM study. NiO thin film electrode has been used as a counter electrode in dye sensitized solar cell. Finally, photovoltaic parameters such as short circuit current density (Jsc), open circuit voltage (Voc), Fill Factor (FF) and efficiency (η) have been studied.
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Literatur
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Metadaten
Titel
Chemically deposited nickel oxide as counter electrode for dye sensitized solar cell
verfasst von
A. T. Yadav
P. P. Magar
V. S. Kadam
C. V. Jagtap
C. S. Pawar
Publikationsdatum
09.06.2016
Verlag
Springer US
Erschienen in
Journal of Materials Science: Materials in Electronics / Ausgabe 12/2016
Print ISSN: 0957-4522
Elektronische ISSN: 1573-482X
DOI
https://doi.org/10.1007/s10854-016-5020-5

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