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Journal of Electroceramics
Erschienen in: Journal of Electroceramics 2-4/2006

01.12.2006 | 3. Nanomaterials and synthesis

Effects of the O2/Ar gas flow ratio on the electrical and transmittance properties of ZnO:Al films deposited by RF magnetron sputtering

verfasst von: Keunbin Yim, Hyounwoo Kim, Chongmu Lee

Erschienen in: Journal of Electroceramics | Ausgabe 2-4/2006

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Metadaten
Titel
Effects of the O2/Ar gas flow ratio on the electrical and transmittance properties of ZnO:Al films deposited by RF magnetron sputtering
verfasst von
Keunbin Yim
Hyounwoo Kim
Chongmu Lee
Publikationsdatum
01.12.2006
Verlag
Kluwer Academic Publishers
Erschienen in
Journal of Electroceramics / Ausgabe 2-4/2006
Print ISSN: 1385-3449
Elektronische ISSN: 1573-8663
DOI
https://doi.org/10.1007/s10832-006-7036-3

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