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Erschienen in: Semiconductors 9/2023

01.09.2023

Influence of the Oxygen during the Deposition of an Indium Tin Oxide Thin Film by Magnetron Sputtering for Heterojunction Solar Cells

verfasst von: A. F. Ivanov, F. S. Egorov, N. D. Platonov, V. L. Matukhin, E. I. Terukov

Erschienen in: Semiconductors | Ausgabe 9/2023

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Abstract

optoelectronic properties of indium and tin oxide thin films depending on the oxygen content in the total gas flow were experimentally investigated during deposition of these films by DC magnetron target sputtering. Relationship of the hetero junction thin-film solar cell output parameters vs. oxygen partial pressure in a vacuum vessel was examined during indium and tin oxide layer deposition. The maximum photovoltaic conversion efficiency of the solar cell was achieved at an oxygen partial pressure in the vacuum vessel of ~6.5 Torr.

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Literatur
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Metadaten
Titel
Influence of the Oxygen during the Deposition of an Indium Tin Oxide Thin Film by Magnetron Sputtering for Heterojunction Solar Cells
verfasst von
A. F. Ivanov
F. S. Egorov
N. D. Platonov
V. L. Matukhin
E. I. Terukov
Publikationsdatum
01.09.2023
Verlag
Pleiades Publishing
Erschienen in
Semiconductors / Ausgabe 9/2023
Print ISSN: 1063-7826
Elektronische ISSN: 1090-6479
DOI
https://doi.org/10.1134/S1063782623050081

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