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Erschienen in:
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2001 | OriginalPaper | Buchkapitel

Investigation of a Novel Rapid Thermal Processing Concept Using an Electro-Optically Controlled Radiation Cavity

verfasst von : N. E. B. Cowern, F. Roozeboom, P. Van der Sluis

Erschienen in: Simulation of Semiconductor Processes and Devices 2001

Verlag: Springer Vienna

Enthalten in: Professional Book Archive

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We present numerical investigations of a novel technique for reducing the thermal cycle during lamp-heated rapid-thermal processing (RTP). In our concept the reflective reactor-wall surface is replaced by an electro-optically switchable film, which allows efficient heating and subsequent radiative cooling of processed wafers. Our approach provides an efficient solution to ultrashallow junction requirements for forthcoming CMOS generations.

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Metadaten
Titel
Investigation of a Novel Rapid Thermal Processing Concept Using an Electro-Optically Controlled Radiation Cavity
verfasst von
N. E. B. Cowern
F. Roozeboom
P. Van der Sluis
Copyright-Jahr
2001
Verlag
Springer Vienna
Buch
Simulation of Semiconductor Processes and Devices 2001

Print ISBN: 978-3-7091-7278-0

Electronic ISBN: 978-3-7091-6244-6

Copyright-Jahr: 2001

DOI
https://doi.org/10.1007/978-3-7091-6244-6_78

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