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Microsystem Technologies
Erschienen in: Microsystem Technologies 9-11/2008

01.10.2008 | Technical Paper

3-D PTFE microstructure fabricated using synchrotoron radiation etching

verfasst von: Mitsuhiro Horade, Sommawan Khumpuang, Susumu Sugiyama

Erschienen in: Microsystem Technologies | Ausgabe 9-11/2008

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Abstract

Microfabrication technique using SR ablation for 3-D polytetrafluoroethylene (PTFE) structure is reported in this work. First of all, we investigated necessary basic data for the fabricated structure like the processing depth and the etching rate, etc. And, the exposure energy distribution was given to the surface of polytetrafluoroethylene by using the plane pattern to cross-section transfer (PCT) technique, 3-D microstructures was fabricated. To establish three dimension of highly accurate PTFE processing technology, we are researching the application to the device.
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Literatur
Nishi N, Katoh T, Ueno H, Konishi S, Sugiyama S (1999) 3-Dimensional micromachining of PTFE using synchrotron radiation direct photo-etching. In: Proceedings of MHS, Nagoya, pp 93–98
Sugiyama S, Khumpuang S, Kawaguchi G (2004) Plain-pattern to cross-section transfer (PCT) technique for deep X-ray lithography and applications. J Micromech Microeng 14:1399–1404CrossRef
Zhang Y, Katoh T (1996) Synchrotron radiation micromachining of polymers to produce high aspect ratio microparts. Jpn J Appl Phys 35:186–188CrossRef
Metadaten
Titel
3-D PTFE microstructure fabricated using synchrotoron radiation etching
verfasst von
Mitsuhiro Horade
Sommawan Khumpuang
Susumu Sugiyama
Publikationsdatum
01.10.2008
Verlag
Springer-Verlag
Erschienen in
Microsystem Technologies / Ausgabe 9-11/2008
Print ISSN: 0946-7076
Elektronische ISSN: 1432-1858
DOI
https://doi.org/10.1007/s00542-008-0576-5

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