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Journal of Nanoparticle Research
Erschienen in: Journal of Nanoparticle Research 1/1999

01.03.1999

The Effect of Substrate Temperature on the Properties of Nanostructured Silicon Carbide Films Deposited by Hypersonic Plasma Particle Deposition

verfasst von: J. Blum, N. Tymiak, A. Neuman, Z. Wong, N.P. Rao, S.L. Girshick, W.W. Gerberich, P.H. McMurry, J.V.R. Heberlein

Erschienen in: Journal of Nanoparticle Research | Ausgabe 1/1999

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Metadaten
Titel
The Effect of Substrate Temperature on the Properties of Nanostructured Silicon Carbide Films Deposited by Hypersonic Plasma Particle Deposition
verfasst von
J. Blum
N. Tymiak
A. Neuman
Z. Wong
N.P. Rao
S.L. Girshick
W.W. Gerberich
P.H. McMurry
J.V.R. Heberlein
Publikationsdatum
01.03.1999
Verlag
Kluwer Academic Publishers
Erschienen in
Journal of Nanoparticle Research / Ausgabe 1/1999
Print ISSN: 1388-0764
Elektronische ISSN: 1572-896X
DOI
https://doi.org/10.1023/A:1010033413357

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