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Erschienen in: Journal of Materials Science: Materials in Electronics 4/2008

01.04.2008

Thickness dependence of refractive index and optical gap of PMMA layers prepared under electrical field

verfasst von: V. Švorčík, O. Lyutakov, I. Huttel

Erschienen in: Journal of Materials Science: Materials in Electronics | Ausgabe 4/2008

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Abstract

Optical parameters (refractive index, dispersion energy, optical gap) of polymethylmethacrylate (PMMA) layers prepared by spin coating and modified by electric field have been studied. Refractive index was measured using a refractometer, internal structure was investigated as a structural parameter (E d) within the One Oscillator Model. Optical gap width (E g opt ) was assessed using Tauc Approximation from UV-Vis spectra. Surface morphology and roughness was investigated using an AFM. The electric field imposed during preparation of layers increases their refractive index. The highest increase in nn = 0.042) was found for the thinnest PMMA layer (70 nm). Oriented layers have produced higher E g opt than non-oriented ones for all studied values of thickness. The electrical field applied at preparation of the oriented layer will not change its surface morphology and roughness.

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Metadaten
Titel
Thickness dependence of refractive index and optical gap of PMMA layers prepared under electrical field
verfasst von
V. Švorčík
O. Lyutakov
I. Huttel
Publikationsdatum
01.04.2008
Verlag
Springer US
Erschienen in
Journal of Materials Science: Materials in Electronics / Ausgabe 4/2008
Print ISSN: 0957-4522
Elektronische ISSN: 1573-482X
DOI
https://doi.org/10.1007/s10854-007-9344-z

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