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Semiconductors
Erschienen in: Semiconductors 6/2020

01.06.2020 | CARBON SYSTEMS

Atomic Carbon Transport between the Rh Surface and Bulk in Graphene Formation and Destruction

verfasst von: E. V. Rut’kov, E. Yu. Afanas’eva, N. R. Gall

Erschienen in: Semiconductors | Ausgabe 6/2020

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Abstract

The equilibrium transport of atomic carbon between the Rh surface and bulk, which controls the kinetics of the phase transition resulting in graphene growth or destruction, is investigated. The difference between the activation energy Es1 of atomic-carbon dissolution and the energy E1s of its segregation from the bulk to the surface is found to be ΔE = 0.7 eV. The temperature dependence of the critical coating Neq = Neq(T) in the chemisorbed carbon layer is measured. It is a 2D phase transition that takes place at this coating, and graphene islands start to grow: for example, Neq = 7.7 × 1014 cm–2 at T = 1800 K, and Neq = 3.1 × 1014 cm–2 at T = 1000 K.
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Metadaten
Titel
Atomic Carbon Transport between the Rh Surface and Bulk in Graphene Formation and Destruction
verfasst von
E. V. Rut’kov
E. Yu. Afanas’eva
N. R. Gall
Publikationsdatum
01.06.2020
Verlag
Pleiades Publishing
Erschienen in
Semiconductors / Ausgabe 6/2020
Print ISSN: 1063-7826
Elektronische ISSN: 1090-6479
DOI
https://doi.org/10.1134/S1063782620060147

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