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Erschienen in:
1996 | OriginalPaper | Buchkapitel
Background
verfasst von : Jitendra B. Khare, Wojciech Maly
Erschienen in: From Contamination to Defects, Faults and Yield Loss
Verlag: Springer US
Enthalten in: Professional Book Archive
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In this chapter, we briefly discuss previous attempts at modeling contamination in IC manufacturing and its effect on yield modeling. The relevance of these models in modern manufacturing environments is also discussed.