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Erschienen in: Journal of Materials Science: Materials in Electronics 4/2015

01.04.2015

Electrical and luminescence properties of Zn2+ doped CuI thin films

verfasst von: Ming Xia, Mu Gu, Xiaolin Liu, Bo Liu, Shiming Huang, Chen Ni

Erschienen in: Journal of Materials Science: Materials in Electronics | Ausgabe 4/2015

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Abstract

Zn2+ doped CuI thin films were prepared by vacuum evaporation technique. The influence of the dopant on crystalline, electrical and luminescence properties of the CuI thin films were investigated. An enhancement in crystallization and the shift of (111) peak were found in the Zn2+ doped CuI films. The native p-type semiconductor of CuI film changed to n-type one for doping concentration up to 2 mol%. Such change is due to the mechanism that the Zn2+ ions not only fill the Cu vacancies but also donate free electrons. For the n-type CuI films, the minimal resistivity and maximal electron concentration was found for the 4 mol% Zn2+ doped sample. All Zn2+ doped CuI thin films showed the 410 and 422 nm near-band emissions. The intensity of the 422 nm emission was significantly improved with 1 mol% Zn2+ doping. The observation can be explained by the increase of the donor–acceptor pairs in the film.

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Metadaten
Titel
Electrical and luminescence properties of Zn2+ doped CuI thin films
verfasst von
Ming Xia
Mu Gu
Xiaolin Liu
Bo Liu
Shiming Huang
Chen Ni
Publikationsdatum
01.04.2015
Verlag
Springer US
Erschienen in
Journal of Materials Science: Materials in Electronics / Ausgabe 4/2015
Print ISSN: 0957-4522
Elektronische ISSN: 1573-482X
DOI
https://doi.org/10.1007/s10854-015-2735-7

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