01.12.2012 | Technical Paper
Fast and accurate X-ray lithography simulation enabled by using Monte Carlo method. New version of DoseSim: a software dedicated to deep X-ray lithography (LIGA)
Erschienen in: Microsystem Technologies | Ausgabe 12/2012
EinloggenAktivieren Sie unsere intelligente Suche, um passende Fachinhalte oder Patente zu finden.
Wählen Sie Textabschnitte aus um mit Künstlicher Intelligenz passenden Patente zu finden. powered by
Markieren Sie Textabschnitte, um KI-gestützt weitere passende Inhalte zu finden. powered by