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Microsystem Technologies
Erschienen in: Microsystem Technologies 9-11/2008

01.10.2008 | Technical Paper

Reflectivity test of X-ray mirrors for deep X-ray lithography

verfasst von: V. Nazmov, E. Reznikova, A. Last, M. Boerner, J. Mohr

Erschienen in: Microsystem Technologies | Ausgabe 9-11/2008

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Abstract

The reflectivity of grazing angle X-ray mirrors, used for X-ray deep lithography, is tested by means of a calorimetric method. A deviation in the reflectivity of a used mirror compared with the reflectivity of a clean surface is observed. This deviation is caused by an oxide layer on the mirrors surfaces. The density, thickness and roughness of the assumed oxide layers are determined experimentally.
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Literatur
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Metadaten
Titel
Reflectivity test of X-ray mirrors for deep X-ray lithography
verfasst von
V. Nazmov
E. Reznikova
A. Last
M. Boerner
J. Mohr
Publikationsdatum
01.10.2008
Verlag
Springer-Verlag
Erschienen in
Microsystem Technologies / Ausgabe 9-11/2008
Print ISSN: 0946-7076
Elektronische ISSN: 1432-1858
DOI
https://doi.org/10.1007/s00542-008-0581-8

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