Erschienen in: Open Access 01.12.2013 | Review Article Scratch formation and its mechanism in chemical mechanical planarization (CMP) verfasst von: Tae-Young Kwon, Manivannan Ramachandran, Jin-Goo Park Erschienen in: Friction | Ausgabe 4/2013 Diesen Artikel als PDF-Version lesen. loading … Nächster Artikel Chemical mechanical polishing: Theory and experiment download DOWNLOAD print DRUCKEN