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Microsystem Technologies
Erschienen in: Microsystem Technologies 2/2015

01.02.2015 | Technical Paper

Technology of ultralong deep brain fluidic microelectrodes combined with etching-before-grinding

verfasst von: Zoltán Fekete

Erschienen in: Microsystem Technologies | Ausgabe 2/2015

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Abstract

This paper presents a combined fabrication technique that is based on some recent advances in silicon microengineering. Buried microchannels in ultralong silicon microelectrodes thinned by etching-before grinding technology offers novel functional microdevices in the field of neural interfaces. Providing injection, sampling and electrical recording—all integrated monolithically in a long and subsequently thinned silicon microelectrode—extends translational research in fundamental neuroscience due to reduced microelectrode dimensions and functionality like stimulation and recording in deep brain region of cats or apes.
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Metadaten
Titel
Technology of ultralong deep brain fluidic microelectrodes combined with etching-before-grinding
verfasst von
Zoltán Fekete
Publikationsdatum
01.02.2015
Verlag
Springer Berlin Heidelberg
Erschienen in
Microsystem Technologies / Ausgabe 2/2015
Print ISSN: 0946-7076
Elektronische ISSN: 1432-1858
DOI
https://doi.org/10.1007/s00542-013-1985-7

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