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Microsystem Technologies

Erschienen in:

01.03.2013 | Technical Paper

Deposition property investigation of a focused ion beam for a high-aspect-ratio metal tip

verfasst von: Dae Keun Choi, Sang Hoon Lee

Erschienen in: Microsystem Technologies | Ausgabe 3/2013

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Abstract

We investigate the deposition properties of a focused ion beam for the fabrication of metal structures. We performed experiments under various beam currents, deposition times, and initial design diameters and analyzed the fabricated diameters and heights with recorded video clips. We observed abnormal deposition phenomena which show the etching effect as well as deposition, and investigated the relationship between the etching and parameters such as beam current and designed diameter. We apply these conditions and finally fabricate a high-aspect-ratio tip without abnormal deposition phenomena.

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Henry MD, Shearn MJ, Chhim B, Scherer A (2010) Ga⁺ beam lithography for nanoscale silicon reactive ion etching. Nanotechnology 21(14):245303. doi:10.1088/0957-4484/21/24/245303 CrossRef

Hida H, Shikida M, Fukuzawa K, Murakami S, Sato Ke, Asaumi K, Iriye Y, Sato K (2008) Fabrication of a quartz tuning-fork probe with a sharp tip for AFM systems. Sens Actuators A 148(1):311–318. doi:10.1016/j.sna.2008.08.021 CrossRef

Lee SH, Kang HW, Cho DW, Moon W (2007) Study on the method for the reliability test of focused ion beam. Microsyst Technol 13(5–6):569–577. doi:10.1007/s00542-006-0227-7 CrossRef

Lee SH, Lim G, Moon W, Shin H, Kim C-W (2008) V-shaped metal-oxide-semiconductor transistor probe with nano tip for surface electric properties. Ultramicroscopy 108(10):1094–1100. doi:10.1016/j.ultramic.2008.04.034 CrossRef

Li H-W, Kang D-J, Blamire MG, Huck WTS (2003) Focused ion beam fabrication of silicon print masters. Nanotechnology 14(2):220–223. doi:10.1088/0957-4484/14/2/323 CrossRef

Li B, Tang X, Xie H, Zhang X (2004) Strain analysis in MEMS/NEMS structures and devices by using focused ion beam system. Sens Actuators A 111(1):57–62. doi:10.1016/j.sna.2003.07.014 CrossRef

Wang H, Gray JL (2011) Surface templates fabricated using a focused ion beam for lateral positioning of nanoscale islands on Si (001) substrates. J Vac Sci Technol B 29(4):04D106. doi:10.1116/1.3602112 CrossRef

Xie DZ, Ngoi BKA, Ong AS, Fu YQ, Lim BH (2003) Focused ion beam micromachining of TiNi film on Si (111). Nucl Instr Meth B 211(3):363–368. doi:10.1016/S0168-583X(03)01412-5 CrossRef

Titel: Deposition property investigation of a focused ion beam for a high-aspect-ratio metal tip
verfasst von: Dae Keun Choi
Sang Hoon Lee
Publikationsdatum: 01.03.2013
Verlag: Springer-Verlag
Erschienen in: Microsystem Technologies / Ausgabe 3/2013
Print ISSN: 0946-7076
Elektronische ISSN: 1432-1858
DOI: https://doi.org/10.1007/s00542-012-1616-8

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