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Microsystem Technologies
Erschienen in: Microsystem Technologies 3/2013

01.03.2013 | Technical Paper

Fabrication of 3-D PTFE microstructures utilising change of etching rate with respect to exposure time

verfasst von: Mitsuhiro Horade, Susumu Sugiyama

Erschienen in: Microsystem Technologies | Ausgabe 3/2013

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Abstract

In this study, we fabricated three-dimensional (3-D) polytetrafluoroethylene (PTFE) microstructures using the plane-pattern to cross-section transfer (PCT) method with synchrotron radiation (SR) ablation. We found that the etching rate increased with increasing SR exposure. This was attributed to the heating of the PTFE surface as evidenced by the emission of fluorocarbon gas from the surface. Using the PCT method, we successfully produced various 3-D PTFE microstructure shapes by varying the energy distribution of the SR exposure using multiple scanning speeds.
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Literatur
Horade M, Sugiyama S (2010) Shape-prediction of 3D PTFE microstructures fabricated by synchrotron radiation ablation. IEEJ Trans Electr Electron Eng 5(2):143–148. doi:10.​1002/​tee.​20509 CrossRef
Kato T, Nishi N, Fukagawa M, Ueno H, Sugiyama S (2001) Direct writing for three-dimensional microfabrication using synchrotron radiation etching. Sens Actuators A Phys 89:10–15CrossRef
Katoh T (2000) 3D Microfabrication using TIEGA process. In: Memoirs of the SR Center Ritsumeikan University, pp 125–126
Nakamura Y, Tabata O (2006) Moving mask direct photo-etching (M2DPE) for 3D micromachining of polytetrafluoroethylene. IEEJ Trans Electr Electron Eng 126(9):499–503. doi:10.​1541/​ieejsmas.​126.​499
Nishi N, Katoh T, Ueno H, Konishi S and Sugiyama S (1999) 3-Dimensional micromachining of PTFE using synchrotron radiation direct photo-etching. Proc Int Symp Micromech Human Sci ‘99, pp 93–98. doi:10.​1109/​MHS.​1999.​819988
Metadaten
Titel
Fabrication of 3-D PTFE microstructures utilising change of etching rate with respect to exposure time
verfasst von
Mitsuhiro Horade
Susumu Sugiyama
Publikationsdatum
01.03.2013
Verlag
Springer-Verlag
Erschienen in
Microsystem Technologies / Ausgabe 3/2013
Print ISSN: 0946-7076
Elektronische ISSN: 1432-1858
DOI
https://doi.org/10.1007/s00542-012-1605-y

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