Skip to main content
Erschienen in: Microsystem Technologies 3/2013

01.03.2013 | Technical Paper

Application of photo-etching of polytetrafluoroethylene induced by high energy synchrotron radiation to LIGA

verfasst von: Hideki Kido, Tomoyuki Kuroki, Masaaki Okubo, Yuichi Utsumi

Erschienen in: Microsystem Technologies | Ausgabe 3/2013

Einloggen

Aktivieren Sie unsere intelligente Suche, um passende Fachinhalte oder Patente zu finden.

search-config
loading …

Abstract

Polytetrafluoroethylene (PTFE) microstructures’ processing characteristics using X-ray photo decomposition and desorption are studied in the highest energy region (2–12 keV). While the exposed surface states are seen melting and boiling from the remaining bubble structure of the irradiated surface, basic photochemistry of PTFE is also same as previous reports. Surface modification of PTFE from hydrophobic to hydrophilic was investigated in order to bond PTFE sheets to a brass substrate. Then, we have a successfully fabricated Ni microstructure by LIGA process using PTFE photo-etching using high energy X-ray. Proposed LIGA using SR-photo-etching of PTFE can simplify the total process, and it can ensure that dimensional errors remain small due to swelling in developer and electroplating bath.

Sie haben noch keine Lizenz? Dann Informieren Sie sich jetzt über unsere Produkte:

Springer Professional "Wirtschaft+Technik"

Online-Abonnement

Mit Springer Professional "Wirtschaft+Technik" erhalten Sie Zugriff auf:

  • über 102.000 Bücher
  • über 537 Zeitschriften

aus folgenden Fachgebieten:

  • Automobil + Motoren
  • Bauwesen + Immobilien
  • Business IT + Informatik
  • Elektrotechnik + Elektronik
  • Energie + Nachhaltigkeit
  • Finance + Banking
  • Management + Führung
  • Marketing + Vertrieb
  • Maschinenbau + Werkstoffe
  • Versicherung + Risiko

Jetzt Wissensvorsprung sichern!

Springer Professional "Technik"

Online-Abonnement

Mit Springer Professional "Technik" erhalten Sie Zugriff auf:

  • über 67.000 Bücher
  • über 390 Zeitschriften

aus folgenden Fachgebieten:

  • Automobil + Motoren
  • Bauwesen + Immobilien
  • Business IT + Informatik
  • Elektrotechnik + Elektronik
  • Energie + Nachhaltigkeit
  • Maschinenbau + Werkstoffe




 

Jetzt Wissensvorsprung sichern!

Literatur
Zurück zum Zitat Becker EW, Eherfeld W, Hagmann P, Maner A, Münchmeyer D (1986) Fabrication of microstructures with high aspect ratios and great structural heights by synchrotron radiation lithography, galvanoforming, and plastic moulding (LIGA process). Microelectron Eng 4:35–56. doi:10.1016/0167-9317(86)90004-3 CrossRef Becker EW, Eherfeld W, Hagmann P, Maner A, Münchmeyer D (1986) Fabrication of microstructures with high aspect ratios and great structural heights by synchrotron radiation lithography, galvanoforming, and plastic moulding (LIGA process). Microelectron Eng 4:35–56. doi:10.​1016/​0167-9317(86)90004-3 CrossRef
Zurück zum Zitat Simons JK, Frigo SP, Taylor JW, Rosenberg RA (1994) Synchrotron radiation (5–50 eV) induced degradation of fluorinated polymers. J Vac Sci Technol A 12:681–689. doi:10.1116/1.578853 CrossRef Simons JK, Frigo SP, Taylor JW, Rosenberg RA (1994) Synchrotron radiation (5–50 eV) induced degradation of fluorinated polymers. J Vac Sci Technol A 12:681–689. doi:10.​1116/​1.​578853 CrossRef
Zurück zum Zitat Utsumi Y, Kishimoto T (2005) Large area and wide dimension range X-ray lithography for lithographite, galvanoformung, and abformung process using energy variable synchrotron radiation. J Vac Sci Technol B 23:2903–2909. doi:10.1116/1.2131880 CrossRef Utsumi Y, Kishimoto T (2005) Large area and wide dimension range X-ray lithography for lithographite, galvanoformung, and abformung process using energy variable synchrotron radiation. J Vac Sci Technol B 23:2903–2909. doi:10.​1116/​1.​2131880 CrossRef
Zurück zum Zitat Zhang Y, Katho T, Washio M, Yamada H, Hamada S (1995) High aspect ratio micromachining Teflon by direct exposure to synchrotron radiation. Appl Phys Lett 67:872–874. doi:10.1063/1.115533 CrossRef Zhang Y, Katho T, Washio M, Yamada H, Hamada S (1995) High aspect ratio micromachining Teflon by direct exposure to synchrotron radiation. Appl Phys Lett 67:872–874. doi:10.​1063/​1.​115533 CrossRef
Metadaten
Titel
Application of photo-etching of polytetrafluoroethylene induced by high energy synchrotron radiation to LIGA
verfasst von
Hideki Kido
Tomoyuki Kuroki
Masaaki Okubo
Yuichi Utsumi
Publikationsdatum
01.03.2013
Verlag
Springer-Verlag
Erschienen in
Microsystem Technologies / Ausgabe 3/2013
Print ISSN: 0946-7076
Elektronische ISSN: 1432-1858
DOI
https://doi.org/10.1007/s00542-012-1472-6

Weitere Artikel der Ausgabe 3/2013

Microsystem Technologies 3/2013 Zur Ausgabe

Neuer Inhalt