Erschienen in: Open Access 01.12.2013 | Review Article Chemical mechanical polishing: Theory and experiment verfasst von: Dewen Zhao, Xinchun Lu Erschienen in: Friction | Ausgabe 4/2013 Diesen Artikel als PDF-Version lesen. loading … Vorheriger Artikel Scratch formation and its mechanism in chemical mechanical planarization (CMP) Nächster Artikel Y2O3 nanosheets as slurry abrasives for chemical-mechanical planarization of copper download DOWNLOAD print DRUCKEN