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Erschienen in: Journal of Computational Electronics 1/2017

15.11.2016

Group III–V ternary compound semiconductor materials for unipolar conduction in tunnel field-effect transistors

verfasst von: Bhagwan Ram Raad, Dheeraj Sharma, Kaushal Nigam, Pravin Kondekar

Erschienen in: Journal of Computational Electronics | Ausgabe 1/2017

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Abstract

A distinct materials combination is presented for tunnel field-effect transistors (TFETs): gallium arsenide phosphide (GaAsP) as a wider-bandgap material in the drain and channel regions with indium gallium arsenide (InGaAs) as a narrow-bandgap material for the source region. The introduction of this novel materials combination greatly improves the ON-state current, OFF-state current, ambipolar behavior, threshold voltage, and subthreshold slope compared with other group III–V ternary heterojunction TFETs. In GaAsP–InGaAs TFETs, the ambipolar current remains equal to the OFF-state current. This paper explores the potential of the proposed device for ultralow-power high-performance applications.

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Literatur
1.
Zurück zum Zitat Sakurai, T.: Tunnel Perspectives of low-power VLSIs. IEICE Trans. Electron E87–C(4), 429–436 (2004) Sakurai, T.: Tunnel Perspectives of low-power VLSIs. IEICE Trans. Electron E87–C(4), 429–436 (2004)
2.
Zurück zum Zitat Seabaugh, A.C., Zhang, Q.: Low-voltage tunnel transistors for beyond CMOS logic. Proc. IEEE 98(12), 2095–2110 (2010)CrossRef Seabaugh, A.C., Zhang, Q.: Low-voltage tunnel transistors for beyond CMOS logic. Proc. IEEE 98(12), 2095–2110 (2010)CrossRef
3.
Zurück zum Zitat Boucart, K., Ionescu, A.M.: Double-gate tunnel TFET with high-\(\kappa \) gate dielectric. IEEE Trans Electron Devices 54(7), 1725–1733 (2007)CrossRef Boucart, K., Ionescu, A.M.: Double-gate tunnel TFET with high-\(\kappa \) gate dielectric. IEEE Trans Electron Devices 54(7), 1725–1733 (2007)CrossRef
4.
Zurück zum Zitat Kim, S.H., kam, H., Liu, T.J.K.: Germanium-source tunnel field effect transistors with recored high \(I_{ON}/I_{OFF}\), in VLSI Symp. Tech. Dig., Jun.(2009), pp. 178-179 Kim, S.H., kam, H., Liu, T.J.K.: Germanium-source tunnel field effect transistors with recored high \(I_{ON}/I_{OFF}\), in VLSI Symp. Tech. Dig., Jun.(2009), pp. 178-179
5.
Zurück zum Zitat Hraziia, A., Vladimirescu, A., Amara, Anghel, C.: An analysis on the ambipolar current in Si double-gate tunnel FETs. Solid-State Electron. 70, 67–72 (2012)CrossRef Hraziia, A., Vladimirescu, A., Amara, Anghel, C.: An analysis on the ambipolar current in Si double-gate tunnel FETs. Solid-State Electron. 70, 67–72 (2012)CrossRef
6.
Zurück zum Zitat Saurabh, S., Kumar, M.J.: Novel Attributes of a Dual Material Gate Nanoscale Tunnel Field-Effect Transistor. IEEE Trans Electron Devices 58(2), 404–410 (2011)CrossRef Saurabh, S., Kumar, M.J.: Novel Attributes of a Dual Material Gate Nanoscale Tunnel Field-Effect Transistor. IEEE Trans Electron Devices 58(2), 404–410 (2011)CrossRef
7.
Zurück zum Zitat Ahish, S., Sharma, D., Kumar, Y.B.N., Vasantha, M.H.: Performance Enhancement of Novel InAs/Si Hetero Double-Gate Tunnel FET Using Gaussian Doping. IEEE Trans Electron Devices 63(1), 288–295 (2016)CrossRef Ahish, S., Sharma, D., Kumar, Y.B.N., Vasantha, M.H.: Performance Enhancement of Novel InAs/Si Hetero Double-Gate Tunnel FET Using Gaussian Doping. IEEE Trans Electron Devices 63(1), 288–295 (2016)CrossRef
8.
Zurück zum Zitat Choi, W.Y., Lee, W.: Hetero-Gate-Dielectric Tunneling Field-Effect Transistors. IEEE Trans. Electron Devices 57(9), 2317–2319 (2010)CrossRef Choi, W.Y., Lee, W.: Hetero-Gate-Dielectric Tunneling Field-Effect Transistors. IEEE Trans. Electron Devices 57(9), 2317–2319 (2010)CrossRef
9.
Zurück zum Zitat Knoch, J., Appenzeller, J.: A novel concept for field-effect transistor-The tunneling carben nanotube FET. In proc. 63rd DRC, Jun. 20-22, (2010) vol. 1, pp. 153-156 Knoch, J., Appenzeller, J.: A novel concept for field-effect transistor-The tunneling carben nanotube FET. In proc. 63rd DRC, Jun. 20-22, (2010) vol. 1, pp. 153-156
10.
Zurück zum Zitat Ohashi, K., Fuhimastsu, M., Iwata, S., Miyamoto, Y.: Body width depedence of subthrehold slope and on-current in GaAsSb/InGaAs double-gate vertical tunnel FETs. Jpn. J. Appl. Phys. 54(4s), 04DF10-1–04DF10-5 (2015) Ohashi, K., Fuhimastsu, M., Iwata, S., Miyamoto, Y.: Body width depedence of subthrehold slope and on-current in GaAsSb/InGaAs double-gate vertical tunnel FETs. Jpn. J. Appl. Phys. 54(4s), 04DF10-1–04DF10-5 (2015)
11.
Zurück zum Zitat Silvaco Int., Santa Clara, CA, Atlas Users Manual: Device Simulation Software, (2008) Silvaco Int., Santa Clara, CA, Atlas Users Manual: Device Simulation Software, (2008)
Metadaten
Titel
Group III–V ternary compound semiconductor materials for unipolar conduction in tunnel field-effect transistors
verfasst von
Bhagwan Ram Raad
Dheeraj Sharma
Kaushal Nigam
Pravin Kondekar
Publikationsdatum
15.11.2016
Verlag
Springer US
Erschienen in
Journal of Computational Electronics / Ausgabe 1/2017
Print ISSN: 1569-8025
Elektronische ISSN: 1572-8137
DOI
https://doi.org/10.1007/s10825-016-0932-0

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