11.02.2017 | Technical Paper
Fabrication process induced changes in scattering parameters of meander type RFMEMS shunt switch
Erschienen in: Microsystem Technologies | Ausgabe 12/2017
EinloggenAktivieren Sie unsere intelligente Suche, um passende Fachinhalte oder Patente zu finden.
Wählen Sie Textabschnitte aus um mit Künstlicher Intelligenz passenden Patente zu finden. powered by
Markieren Sie Textabschnitte, um KI-gestützt weitere passende Inhalte zu finden. powered by